第430章 国产设备的惊喜 (第1/2页)

小型货车停在光子芯片研发中心卸货区时，沈明轩刚从实验室出来，手里还拿着上一轮波导损耗测试报告。
　　
　　林知行从副驾跳下来，衬衫袖口卷着，手里有一张运输单，他走到货厢后面，抬手拍了拍箱门，“比预期早三天，华科精密加班赶出来的”。
　　
　　货厢门被拉开，里面固定着一个木箱，箱体侧面印着“华科精密”“光源耦合设备”“首台样机”，下面还有一串出厂编号。
　　
　　沈明轩走到木箱前，伸手按在箱体上，木板外面还带着冷气，运输封条没有拆，边角贴着华科精密的红色质检签。
　　
　　林知行把运输单递给他，“周华建说，这是他做过最快的一次样机交付，昨天夜里他们试完最后一组标定，凌晨直接装车”。
　　
　　沈明轩没接运输单，只看着木箱上的设备名称，“标定数据带了吗”。
　　
　　林知行从文件袋里抽出一摞纸，“带了，光源稳定性，光斑分布，机械定位误差，软件补偿接口，四份都在”。
　　
　　旁边的工程师推来液压叉车，几个人把木箱从货厢里移下来，轮子碾过地面，发出沉闷的滚动声。
　　
　　林知行站在一旁，看着木箱缓缓落地，“实物到了”。
　　
　　沈明轩“开箱”。
　　
　　木箱拆开后，国产光源耦合设备露出机身，外壳是简单的灰白色，边角没有太多装饰，前面板上排列着三组接口，标识贴得很整齐。
　　
　　实验室工程师把设备推上转运车，按无尘流程送进光芯实验室，沈明轩跟在旁边，一边走一边翻周华建给的标定表。
　　
　　林知行停在实验室门口，没有往里走，他身上的外套还沾着运输车厢里的灰，进无尘区要重新换装。
　　
　　隔着玻璃门，他看着工程师把设备推到预留工位，华科精密的铭牌被灯照亮，旁边是前几天刚接入的国产测试接口。
　　
　　沈明轩回头看了他一眼。
　　
　　林知行把文件袋夹在臂弯里，“设备到了，你用”。
　　
　　沈明轩把标定表合上，“好”。
　　
　　林知行点了一下头，转身往外走，走了两步又停下，“如果华科那边接口不行，我给周华建打电话，他今天不会离厂的”。
　　
　　沈明轩说，“先别让他睡”。
　　
　　林知行回头看他，嘴角动了下，“你也一样”。
　　
　　实验室门合上，林知行的身影被隔在玻璃外，沈明轩把目光收回来，走到设备旁边，工程师已经开始接电源和数据线。
　　
　　这台样机的内部光路布局比沈明轩预想得更简洁，打开维护盖后，光源模块、准直组件和耦合平台三块区域分得很清楚，工程师把线路接入控制台，参数面板亮起。
　　
　　屏幕第一行显示耦合精度，数值比他们过去使用的日本设备低一个数量级，旁边几个年轻工程师看完，下意识交换了一下眼神。
　　
　　沈明轩没有说话，他把参数菜单往下翻，停在控制模式那一栏。
　　
　　日本设备用的是精密伺服闭环，参数锁得很死，优点是定位准，缺点是可调范围窄，过去他们所有波导侧壁粗糙度优化，都建立在那套设备的精密路径上。
　　
　　华科精密这台样机不一样。
　　
　　它用的是开环加软件补偿，机械精度不占优势，但光斑功率密度分布可以手动拉宽，补偿曲线也能开放到工程师端，屏幕上每一个参数栏都能点进去改。
　　
　　沈明轩盯着光斑功率密度分布的设置栏，手指停在触控屏边缘。
　　
　　禁运公告发布后，他这几天一直在看同一个问题，如果日本设备再也进不来，光芯实验室不能一边骂禁运，一边继续按日本设备的工艺窗口找答案。
　　
　　只能用国产设备。
　　
　　那就在国产设备的可调范围里找最优解。
　　
　　之前他们卡在零点八，是因为梯度刻蚀的侧壁粗糙度已经压到一个平台，继续用窄而尖的光斑去修饰侧壁，边缘热影响区会很不均匀，越往下调，损耗改善越小。
　　
　　如果把光斑功率密度拉宽，用开环模式做更大的软件补偿，侧壁上形成的熔融层会更均匀，粗糙度也许能再往下。
　　
　　沈明轩拿起记号笔，在白板上画了两条曲线。
　　
　　一条窄而尖，是旧设备的光斑分布；一条宽而平，是华科样机能给出的分布。
　　
　　工程师陈宇航站在旁边，看着那条宽曲线：“沈博，这样耦合效率会不会掉？”
　　
　　“会掉一部分。”
　　
　　沈明轩在宽曲线中段画了一个圈：“但我们不要最高耦合效率，我们要侧壁更均匀的能量分布，先试这个窗口。”
　　
　　另一个工程师翻着工艺表：“那波导刻蚀后的热处理参数也要跟着改。”
　　
　　沈明轩点头：“三项一起动：光斑宽度、功率密度、补偿曲线，其他参数不动。”
　　
　　陈宇航看了眼旧记录：“这是新窗口，没有历史数据。”
　　
　　沈明轩把记号笔扣上：“没有就跑出来。”
　　
　　第一轮参数调整用了很久，华科精密的控制软件还带着早期样机的痕迹，有两个界面跳转不顺，一名工程师把问题记进联调清单，另一名工程师在控制台旁手动复核输入值。
　　
　　

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